無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

TCU制冷加熱循環(huán)裝置應用

TCU制冷加熱循環(huán)裝置應用

　　在醫(yī)藥合成、精細化工操作過程中，我們經常會遇到氧化反應、酸堿中和等強放熱反應，對于這些強放熱反應，如果操控不當或設備不給力就很容易出現靠譜事故或生產效率低的缺陷。TCU制冷加熱循環(huán)裝置通過控制盤管或是夾套內的油溫來進行工藝控制，也常常被稱為反應釜夾套加熱裝置。

　　在持續(xù)的穩(wěn)定放熱反應過程中，需要連續(xù)不間斷的向反應釜夾套內通冷卻水實施降溫才能勉強維持冷熱平衡，此謂釜底抽薪；但是，如果放熱突然加劇就易引發(fā)沖料、溢鍋或更大的靠譜事故，這其中的主要原因是反應釜的單位體積換熱面積太小，單純的夾套降溫遠不能滿足放熱工藝對冷能的需要量。

　　反應釜反應階段的溫度不是一個線性過程，其中有放熱、吸熱、反應速率等各種因素的影響，單純的PID控制是控制不住的，全自動控制實現起來難度很大，需要建立起數學模型，采用醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置進行控溫。

醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置基于預測的模糊自整定PID集成控制技術實現反應釜溫度控制，其主要思想是利用系統(tǒng)模型的預測輸出，結合常規(guī)PID的控制經驗，采用模糊推理方法，對控制器算法進行改進。醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置與通常的PID控制方案相比，該設備提高了系統(tǒng)的魯棒性和適應性，較好的解決了反應釜溫度控制的難題。